“那就好，你们没问题，就真的没问题了。我先和大伙说说我对光刻机的设想，据我所知，光刻机根据曝光方法的不同分为：接触式、非接触式和聚焦式三种。
接触式是以前的老方法，缺点太大，我就不讲了。聚焦式虽然更先进，但难度也最大，我们目前还没有这个需要，可以做为以后的研究课题。为了赶时间，我打算这次就采取非接触式，符合我们目前的制程工艺，最高精度可以达到二十纳米以内，目前来讲完全足够了。相反，我们的芯片设计还没赶上来，这次就只试制十六位元的芯片，精度只要达到U米级就够了，洪所长你们扯后腿了啊！”
郭东又开了洪涛的玩笑，不过这却是实情。洪涛也很无奈，芯片设计很复杂，需要大量的熟练人手。跟老板说得一样，要设计纳米级芯片，至少得有几千熟练电子工程师，否则想都不要想。
想到这些，洪涛接过话头说道：“目前我们只能设计一些简单的芯片，连32位元的芯片都要花大量时间才行，至少一年计，我们的熟练人手太少了，实在没办法。老板也知道我们是短板，因此我还被老板批过。唉！”
“好啦！既然老板已经批评了，我们就不批评你了。”郭东又小小的开了一记玩笑，然后正式说道：“非接触式光刻的技术要点就是激光头、掩模板还有基片要无限接近，最好只相差几个纳米，这样才能保证最大的精度。这是属于一种1:1投影技术或者说光刻技术，对掩模板的制作要求非常高，卢总，能不能将设计图进行电子图缩小？而不是光学缩小？”
“理论上是可以的，我们尽量想办法，也就是说我们根本不搞纸质图纸了，直接用电子图纸投影曝光？”涉及到他的专业，卢汝成想也没想就回答了。
这时洪涛也获得了灵感，因此接过了话头说道：“我打算采用液晶投影技术，液晶是一种分子级别的化合物，只要我们技术足够，那么控制精度可以无限小，我相信它能够很好的解决1:1电子图形缩小问题。我们就不走国外那套老路了，那样太复杂，而且精度不够。”
“也只有你才知道国外是怎么搞的，我们从来都是自己搞自己的，不也很好吗？只要我们达到了目的就够了。”
这时王波也插话说道，他对国外是怎么搞的是真不懂，他的话没有半句水份。
“洪所长这个主意很好，这样电子图形缩小就没问题了。”卢汝成对洪涛的办法不由拍案叫绝。
“这样我们是不是可以取消掩模板呢？”
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